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emission spectrum of Li今園 孝志; 小池 雅人; 河内 哲哉; 長谷川 登; 小枝 勝*; 長野 哲也*; 笹井 浩行*; 大上 裕紀*; 米澤 善央*; 倉本 智史*; et al.
Memoirs of the SR Center Ritsumeikan University, (14), p.131 - 144, 2012/05
汎用電子顕微鏡に搭載することが可能な50
4000eV領域をカバーする波長分散型軟X線平面結像分光器の研究開発を行っている。当該領域を四分割(50200eV、155-350eV、300-2200eV、2000-4000eV)し、一つの共通する分光器に搭載できるようそれぞれ最適化したホログラフィック不等間隔溝球面回折格子の設計,製作,評価を行った。リチウム発光スペクトル計測を目的とする50200eV領域の低エネルギー側をカバーする回折格子(溝形状:ラミナ型とブレーズド型)は、全エネルギー領域においてラミナ型で5%超、ブレーズド型で8%超の絶対回折効率であることが放射光による評価の結果明らかになるとともに、Li-スペクトル近傍のレーザープラズマ光源を用いた分解能評価の結果、ラミナ型及びブレーズド型ともに700超であることがわかった。この回折格子を透過型電顕に搭載した分光器を用いて金属Liのスペクトルを高分解能計測することに成功した。
今園 孝志; 佐野 一雄*; 小池 雅人
Memoirs of the SR Center Ritsumeikan University, (13), p.145 - 156, 2011/06
The optical characteristics of soft X-ray (SX) optical devices have been evaluated by using an evaluation beamline for SX optical elements (BL-11) at SR Center of Ritsumeikan University. Most recent activities are as follows: development of multilayer gratings in the keV region; fabrication and evaluation of spherical normal-incidence multilayer mirrors for a SX laser, reflection mapping of multilayer mirrors used in EUV lithography instruments; determination of Stokes parameters of light by complete polarization analysis; comparative measurement of the diffraction efficiencies mechanically-ruled and holographic gratings. Here, we report on establishment of a beam intensity monitor in front of the refocusing toroidal mirror of the beamline and improvements of an ellipsometric apparatus for the evaluation of polarizing elements and the polarization state of the incident light.
今園 孝志; 佐野 一雄*; 鈴木 庸氏; 河内 哲哉; 小池 雅人
Memoirs of the SR Center Ritsumeikan University, (12), p.87 - 100, 2010/05
軟X線領域において偏光実験を実施するための新装置を設計
製作し、立命館大学SRセンターBL-11に設置した。本装置は、6つの独立の駆動軸を駆使することにより、回転検光子法に基づく完全偏光測定のための光学配置を実現できる。本装置の性能試験としてBL-11からの軟X線光源(波長13.9nm近傍)の直線偏光度測定を実施した。偏光子にはイオンビームスパッタリング法によりSi(111)ウェハ上に成膜した2枚のMo/Si多層膜(周期長:10.36nm,周期長に対するMoの膜厚比:0.64,膜総数:46,最上層:Si)を用いた。その結果、波長12.414.8nmの直線偏光度
は8588%であることがわかった。また、偏光子に用いたMo/Si多層膜の偏光能は99%以上(@13.9nm)であり、高い性能を有するX線レーザー用偏光子として利用できることがわかった。これにより、BL-11のがビームラインの建設以来初めて明らかにされるとともに、新装置を利用することで軟X線領域の偏光素子の評価が可能であることが確かめられた。
multilayers for use in the soft X-ray region石野 雅彦; 小池 雅人; 佐野 一雄*
Memoirs of the SR Center Ritsumeikan University, (10), p.131 - 137, 2008/05
Co/SiO多層膜は18keVのX線領域で高い反射率を有することから、X線反射鏡や多層膜回折格子などのX線光学素子への応用が進められている。光学素子を放射光のような高い熱負荷を伴う高輝度X線光源で使用する場合、又は実験装置のベーキング処理を考えた場合、光学素子には高い効率だけでなく高い耐熱性も求められる。そこで、Co/SiO多層膜の耐熱性評価を目的として、Si基板上にイオンビームスパッタリング法により成膜したCo/SiO多層膜に対して600度までの真空加熱処理を行い、熱処理温度に対する多層膜構造と光学的特性の変化を評価した。X線回折測定による構造変化の測定と放射光施設を利用した軟X線反射率測定から、Co/SiO多層膜は400度までの熱処理に対して熱処理前と同様の多層膜構造と軟X線反射率を維持しており、十分実用的な耐熱性を持つことを確認した。
今園 孝志; 石野 雅彦; 小池 雅人; 笹井 浩行*; 佐野 一雄*
Memoirs of the SR Center Ritsumeikan University, (10), p.119 - 130, 2008/05
1.7keV領域で有効な軟X線平面結像型分光器用ラミナー型ホログラフィック多層膜回折格子(刻線密度2400本/mm)を開発した。溝パターンは非球面波露光システムで生成され、反応イオンエッチング法によりラミナー型溝を形成させた。回折格子表面を直列に3つのエリアに分割し、Hf-M, Si-K, W-M線に最適化したMo/SiO
多層膜を各領域に積層した。各エリアにおける1次光の最高回折効率は1820%であった。本回折格子を搭載した平面結像型分光器のエネルギー分解幅は電子衝突型軟X線源(Hf-M, Si-K, W-Mスペクトル)に対して814eVであった。
